PE-CVD等离子增强化学气相沉积镀膜机

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PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积(CVD)反应温度降低,在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离,形成等离子体,利用等离子体的活性来促进反应,所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统(PECVD)。

  该型号PECVD为单温区系列最新款,综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的优点,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。
而且控制部分采用了维意自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统,使得操作更加简便,功能更加强大。

  主要特点:

  1. AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控,协调控制;

  2. 管内压力自动平衡——管内压力实时监测,自动平衡管内压力。

  3. 智能气路通断——每路气体均可定时通断,省时省力;

  4. 射频功率和开关定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间,自动运行;

  5. 炉膛移动速度可调——根据实验要求,用户可设定炉膛左右移动的速度可距离;

  6. 整机结构融为一体——移动方便,避免分散组装的困扰。


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北京大兴PE-CVD等离子增强化学气相沉积镀膜机
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