高真空金属有机蒸发镀膜机

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EV-400高真空金属有机蒸发镀膜机



真空腔室:前开门真空腔体,方便取放基片、更换钨舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护保养;


真空系统:国产分子泵作为主抽泵,真空极限优于5.0✕10-5Pa(经烘烤除气后);另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵,真空极限优于3.0✕10-6Pa(经烘烤除气后);

真空抽速:大气~8✕10-4Pa≤30min;

蒸发源:4~6组欧美技术金属或是有机束源炉蒸发源可选,多源共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜,功能强大,性能稳定;

蒸发电源:真空专业蒸发电源,恒流/恒功率控制。
电流、功率可预先设置,可实现一键启动和停止的自动控制功能;

基片台:最大120mm基片/15~25mmITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板;基片台公转,转速0~20r/min连续可调;

基片台功能:衬底可选择加热(室温~300℃可调可控)或水冷,基片台可选升降,源基距最大350mm;

溅射电源:直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选;

膜厚监控仪:可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪;

可镀材料:可沉积金属(Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等)、非金属、化合物(MoO3、LiF等)及有机材料,可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜;

控制方式:PLC+触摸屏控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障,实现一键抽停真空。

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北京大兴高真空金属有机蒸发镀膜机
北京大兴高真空金属有机蒸发镀膜机
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